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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第1週 |
9/14 |
Course Introduction Note:Buy textbook |
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第2週 |
9/21 |
積體電路介紹與歷史展望 Note:Review on basic device physics |
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第3週 |
9/28 |
現代化的 CMOS 技術 Note:Team forming |
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第4週 |
10/05 |
TCAD Training (Silvaco) Note:Athena process simulator |
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第5週 |
10/12 |
晶體成長、晶圓製造與矽晶圓的基本性質 Note:1st mini lab hand-out |
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第6週 |
10/19 |
半導體製造 ─ 無塵室、晶圓清洗、吸附 |
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第7週 |
10/26 |
微影 |
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第8週 |
11/02 |
TCAD Lab time (TA)
TCAD Lab time (TA) Note:1st mini lab due
(Fri 5pm) |
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第9週 |
11/09 |
熱氧化與 Si/SiO2 界面 |
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第10週 |
11/16 |
1st quiz (open book) Note:Start final presentation preparation* |
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第11週 |
11/23 |
摻質擴散 Note:2nd mini lab hand-out |
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第12週 |
11/30 |
離子佈植 |
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第13週 |
12/07 |
薄膜沉積 Note:One page final project proposal approved day |
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第14週 |
12/14 |
蝕刻 |
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第15週 |
12/21 |
Invited talk (tentatively) Note:2nd mini lab due (Fri 5 pm) |
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第16週 |
12/28 |
後段技術 |
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第17週 |
1/04 |
Final projection presentation and paper due |
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第18週 |
1/11 |
2nd Quiz (open book)
期末考週 |